真空鍍膜技術(shù)和在線鍍層測(cè)厚儀在塑料薄膜上的應(yīng)用

來源:林上科技   發(fā)布時(shí)間:2013/03/30 12:50  瀏覽:3908
真空鍍膜技術(shù)是現(xiàn)代塑料表面金屬化的主要技術(shù)之一,真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀應(yīng)用于真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備生產(chǎn)過程中鍍層厚度均勻性檢測(cè)或透光率光密度在線檢測(cè)。

塑料表面金屬化將改善塑料的表面性質(zhì),使其具有塑料和金屬兩者的獨(dú)特功能,真空鍍膜技術(shù)是現(xiàn)代塑料表面金屬化的主要技術(shù)之一。真空鍍膜法是在高真空狀態(tài)下,采用加熱或離子轟擊的方法,使金屬材料由固態(tài)迅速轉(zhuǎn)化為氣態(tài),以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成一薄層金屬膜,被認(rèn)為是塑料表面金屬化最有效的手段之一。真空蒸發(fā)鍍膜在真空環(huán)境下加熱鍍膜材料,使它在極短時(shí)間內(nèi)蒸發(fā),蒸發(fā)了的鍍膜材料分子沉積在塑料表面上形成鍍膜層。此法簡(jiǎn)單便利、操作容易、成膜速度快、效率高,是薄膜真空制備中最為廣泛使用的技術(shù)。
? ? ? 但薄膜與基體結(jié)合較差,工藝重復(fù)性不好,只能蒸發(fā)鋁這樣的低熔點(diǎn)金屬。磁控濺射鍍膜是在真空中充入惰性氣體,并在塑料基體和金屬靶之間加上高壓直流電,由輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體,產(chǎn)生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子擊出,沉積在塑料基體上。
? ? ? ?由于濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個(gè)數(shù)量級(jí),高能量的濺射原子沉積在基體時(shí)轉(zhuǎn)換的能量多,甚至可發(fā)生部分注入現(xiàn)象,同時(shí)濺射成膜過程中,基體始終在等離子區(qū)中被清洗和激活,因此濺射鍍膜與塑料表面的附著力要比蒸發(fā)鍍膜好,膜層致密、均勻,如配合適當(dāng)?shù)墓ぜD(zhuǎn)動(dòng),可在復(fù)雜表面上獲得較均勻的鍍層。
? ? ? ?目前塑料薄膜真空鍍膜可以使用真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀。真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀主要用于真空鍍膜生產(chǎn)線上,產(chǎn)品光學(xué)性能的實(shí)時(shí)檢測(cè)。鍍膜產(chǎn)品在生產(chǎn)的過程中,需要監(jiān)控產(chǎn)品的透光率是否達(dá)標(biāo)。我公司現(xiàn)研發(fā)的真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀是針對(duì)真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備,用于生產(chǎn)過程中品質(zhì)的監(jiān)控。真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀包括以下三部分:
? ? ? ?1、儀器支架、現(xiàn)場(chǎng)顯示系統(tǒng),顯示實(shí)時(shí)的各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的光密度參數(shù)。
? ? ? ?2.探測(cè)系統(tǒng)包括光源,接收器(測(cè)試點(diǎn)的多少,由用戶定制)
? ? ? ?3.控制器:控制采集測(cè)試中的數(shù)據(jù),并進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。
? ? ? ?4、電腦實(shí)時(shí)監(jiān)控采集系統(tǒng):通過通訊線和設(shè)備連接,實(shí)現(xiàn)在辦公室內(nèi)監(jiān)控真空鍍膜室內(nèi)產(chǎn)品品質(zhì)狀況。(此項(xiàng)可隨客戶自由選配)

真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀


???????真空鍍膜在線鍍層測(cè)厚儀真空鍍膜生產(chǎn)線在線檢測(cè),也可用于太陽膜生產(chǎn)線、玻璃生產(chǎn)線,涂料,有機(jī)材料生產(chǎn)線上的光學(xué)質(zhì)量檢測(cè)。同時(shí)測(cè)量多個(gè)測(cè)試點(diǎn),點(diǎn)數(shù)的多少根據(jù)客戶需求定制。可以選擇紅外,紫外和可見光各種不同的參數(shù)。

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